Services und Engineering: III

PVD Beschichtungs-Service:

Unseren Hochvakuum-Beschichtungsservice bieten wir unseren Kunden sowohl als separaten Dienstleistung aber auch in Kombination mit dem Strukturierungs-Service (siehe II. UV-Lithographie).

Wir verwenden die sehr flexible Hochvakuum-Aufdampftechnik an. Unser Equipment kann sowohl Materialien mit der Elektronenkanone (e-gun) wie auch thermisches verdampfen aus einem Wolfram-Schiffchen beschichten. Letzteres ist sehr gut geeignet für die Beschichtung auf nichtleitenden Substraten (z.B. Photoresiste, Kunststoffteile). Wir bieten die Beschichtung von Einzelschichten als auch Schichtpaketen an. Eine komplette Liste der verfügbaren Materialien finden Sie unter «Spezifikationen». Wir bieten hingegen keine O2-reaktiv Beschichtungen von Metalloxiden an.

Wir unternehmen grosse Anstrengungen in Bezug auf die Vermeidung von Partikeln. Die Beladezone der Wafer ist deshalb entsprechend aufwändig mit Filter-Fan-Units (FFU) eingerichtet und mit langjähriger Arbeitserfahrung kombiniert. Das ermöglicht uns eine qualitativ hochstehende Prozessierung von Wafer, Glasplatte und anderen kundenspezifischen Substraten.

1: Wafer-Beladezone; überdeckt mit laminarer Filter-Fan-unit.

2: Ansicht in die Vakuum-Kammer mit Substrathalter und beiden Verdampfungsquellen (unten)

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