Hintergrundinformationen.

Geschichte.

Das LiGA-Verfahren wurde ursprünglich am Forschungszentrum Karlsruhe entwickelt. Es basiert auf der Verwendung von kollimierter Röntgenstrahlung (Synchrotron Speicherring). Damit werden PMMA-Schichten durch eine Au-Absorbermaske bestrahlt und es entstehen Mikrostrukturen mit perfekt vertikalen Seitenflanken und hohem Aspektverhältnis. Die Strukturhöhe kann bis zu 1000µm betragen. Diese Röntgenstrahlung ist verfügbar in sehr wenigen und teuren Grossforschungsanlagen.
Die Notwendigkeit dieser Strahlung ist auch der Hauptgrund, weshalb sich dieses Original LiGA-Verfahren nie kommerziell durchgesetzt hat für industrielle Anwendungen.

Die applied microSWISS-Highlights.

Mikrostrukturen mit den folgenden Eigenschaften können hergestellt werden unter der Verwendung von UV-Lithographie:

• Strukturhöhe von 50nm bis zu 500µm
 • Aspektverhältnis (AR) = 5:1   (Strukturhöhe / Strukturbreite)
 • Exzellente Seitenflanken-Steilheit
 • Oberflächen-Rauheit (Ra) ‹ 6nm
 • Sehr enge Toleranzen erreichbar

 • applied microSWISS-Exklusivität: Seitenflanken mit einstellbarem Neigungswinkel für Abformwerkzeuge.

applied microSWISS: Ihr one-stop-shop.

Während den letzten mehr als 20 Jahren hat applied microSWISS ein sehr umfangreiches Prozess-Portfolio erarbeitet für verschiedene Strukturhöhen und auch für mehrstufige Architekturen. Dies befähigt uns immer anspruchsvollere Kundenspezifikationen im Bereich der Kunststoffabformung von Mikro- und Nanostrukturen zu erfüllen.

Das UV-LiGA-Verfahren wird verwendet um Mikro- und Nanostrukturen als Komponenten wie auch für Abformwerkzeuge herzustellen.